紫外臭氧清洗机（UVO）

英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO）🔨，是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备🌰，只需把样品放置到样品盘上㊙️，关上舱门，设置时间🧔‍♂️，并按运行，就可以了👑，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金🚵🏻‍♂️，镍，铝👨🏿‍🌾♡，砷化镓🧗🏼‍♀️，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！

目前的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。

v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）🚓，获得超洁净的表面。

v 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时🐷，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后🧑🏻‍🦱，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO🗃👨‍👨‍👦‍👦，-COOH）💁🏿‍♀️，从而提高表面的浸润性。

主要应用：

v 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等🧗‍♂️。

v 微电子产品的表面清洗🧖🏽：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。

v 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。

v 在胶粘接或是印刷之前🔥，对高分子聚合制品的表面改性👩🏽‍🎨：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等🏊🏻‍♂️。

v 科研过程的表面清洗及处理：半导体🏇🏻，生物芯片👡，纳米材料🐤，聚合物，光化学等🧑‍🌾。              

产品特点

v 成本低；

v 120x120mm样品台👵🏽；

v zui大处理样品高14mm💮；

v 抽屉式样品台🤽🏿‍♀️，简单方便；                                  

v 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭📮⚔️，防止对人身伤害；                  

v LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”💦；

v 60分钟定时器🦛；

v 高强度UV灯源🙇🏻‍♂️；

v 可控温的样品台👰🏼🦀；

v 样品清洗无需溶剂🏟；

v 超净表面。                                                                                

二🧊、技术参数

在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。

旋涂机

英国Ossila公司旋转涂布机，方便实用👷🏼‍♂️，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案🚙，设计的旋涂盘❓，无需真空泵或充氮气🧗🏿‍♀️🔪，就能达到很好的旋涂效果🚭，操作简单方便，旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂👎🏼📫。

Ossila旋涂机内置调整水平装置𓀅，zui大限度的保证旋涂均匀

产品特点：

v 体积小巧🦸🏼‍♀️：可在手套箱和通风厨内使用。

v 易安装，免维护：开机即用(无需真空泵、充氮气)。

v 智能程序化控制：旋转速度从120到6000 rpm可编程，可对不同样品的旋涂（缓慢干燥结晶薄膜）。

v 旋涂质量好：不用抽真空也不会出现衬底翘曲现象,即使旋涂0.7毫米🧎‍♂️‍➡️、0.55毫米、0.2毫米或更低时🤶🏻🧙🏽‍♂️，独特的腔体设计同样能达到上乘的旋涂效果。

v 低成本、低维修率：只有两个运动部件,驱动系统和盖子，由于不使用真空泵和充氮气线路👩‍🦯，节省真空泵等保养维护费用👩🏿‍💼。

v 耐酸碱防腐蚀：耐酸碱防腐蚀的FEP覆膜操作界面👳🏼‍♂️，在各种苛刻条件下仍能保证仪器正常运行🛍。

v 性能可靠：皮实耐用,实验室搬运没有损坏的风险📭。

v 安全🦹🏽‍♂️：旋涂机驱动使用24V电源适配器(包括)，不使用高电压🧑🏽‍💻；并且采用智能程序控制自动联锁🧚，保证运行安全。

技术参数✋🏽：

v 程序:100个程序📳，每个程序多达100个步骤🥅；

v 转速稳定性:<2%🤷🏻；

v 速度:120-6000rpm；

v 定时器:1-999sec；

v 电源:DC24V，2A；

v 联锁:工作状态盖子自动锁止功能；

v 尺寸:210x250x120mm；

v 材质:旋涂装置：PP；壳体：不锈钢；盖子：玻璃👮🏿。